Udindo wa sulfure hexafluoride mu etching ya silicon nitride

Sulfur hexafluoride ndi mpweya wokhala ndi mphamvu zabwino kwambiri zotetezera kutentha ndipo nthawi zambiri umagwiritsidwa ntchito mu zozimitsira moto za arc ndi ma transformer amphamvu kwambiri, mizere yotumizira magetsi amphamvu kwambiri, ma transformer, ndi zina zotero. Komabe, kuwonjezera pa ntchito izi, sulfur hexafluoride ingagwiritsidwenso ntchito ngati choyeretsera zamagetsi. Sulfur hexafluoride yapamwamba kwambiri yamagetsi ndi choyeretsera chabwino kwambiri chamagetsi, chomwe chimagwiritsidwa ntchito kwambiri m'munda wa ukadaulo wa ma microelectronics. Masiku ano, mkonzi wapadera wa gasi wa Niu Ruide Yueyue adzayambitsa kugwiritsa ntchito sulfure hexafluoride mu silicon nitride etching ndi mphamvu ya magawo osiyanasiyana.

Tikukambirana za njira ya SF6 plasma etching SiNx, kuphatikizapo kusintha mphamvu ya plasma, chiŵerengero cha mpweya cha SF6/He ndi kuwonjezera mpweya wa cationic O2, kukambirana za momwe imakhudzira kuchuluka kwa etching kwa SiNx element protection layer ya TFT, ndikugwiritsa ntchito plasma radiation The spectrometer imasanthula kusintha kwa kuchuluka kwa mtundu uliwonse mu SF6/He, SF6/He/O2 plasma ndi SF6 dissociation rate, ndikufufuza ubale womwe ulipo pakati pa kusintha kwa kuchuluka kwa etching SiNx ndi kuchuluka kwa mitundu ya plasma.

Kafukufuku wapeza kuti mphamvu ya plasma ikawonjezeka, kuchuluka kwa etching kumawonjezeka; ngati kuchuluka kwa SF6 mu plasma kukuwonjezeka, kuchuluka kwa ma atomu a F kumawonjezeka ndipo kumalumikizana bwino ndi kuchuluka kwa etching. Kuphatikiza apo, mutatha kuwonjezera mpweya wa cationic O2 pansi pa kuchuluka kwa flow rate kokhazikika, kudzakhala ndi zotsatira zowonjezera kuchuluka kwa etching, koma pansi pa ma flow ratios osiyanasiyana a O2/SF6, padzakhala njira zosiyanasiyana zochitira, zomwe zitha kugawidwa m'magawo atatu: (1) Chiŵerengero cha flow cha O2/SF6 ndi chochepa kwambiri, O2 ingathandize kugawanika kwa SF6, ndipo kuchuluka kwa etching panthawiyi kumakhala kwakukulu kuposa pamene O2 sinawonjezedwe. (2) Pamene chiŵerengero cha flow cha O2/SF6 chili chachikulu kuposa 0.2 kufika pa nthawi yomwe ikuyandikira 1, panthawiyi, chifukwa cha kuchuluka kwakukulu kwa SF6 kuti apange maatomu a F, kuchuluka kwa etching kumakhala kwakukulu kwambiri; koma nthawi yomweyo, maatomu a O mu plasma nawonso akuwonjezeka ndipo N'zosavuta kupanga SiOx kapena SiNxO(yx) ndi pamwamba pa filimu ya SiNx, ndipo maatomu a O akamawonjezeka, maatomu a F amakhala ovuta kwambiri pakuchitapo kanthu kochotsa. Chifukwa chake, kuchuluka kwa kuchotsera kumayamba kuchepa pamene chiŵerengero cha O2/SF6 chili pafupi ndi 1. (3) Pamene chiŵerengero cha O2/SF6 chili chachikulu kuposa 1, kuchuluka kwa kuchotsera kumachepa. Chifukwa cha kuwonjezeka kwakukulu kwa O2, maatomu a F osagwirizana amagundana ndi O2 ndi mawonekedwe a OF, zomwe zimachepetsa kuchuluka kwa maatomu a F, zomwe zimapangitsa kuti chiwerengero cha kuchotsera chichepe. Zitha kuwoneka kuchokera apa kuti pamene O2 yawonjezeredwa, chiŵerengero cha kuyenda kwa O2/SF6 chili pakati pa 0.2 ndi 0.8, ndipo kuchuluka kwa kuchotsera kwabwino kwambiri kungapezeke.