Udindo wa sulfure hexafluoride mu silicon nitride etching

Sulfur hexafluoride ndi mpweya wokhala ndi zotetezera bwino kwambiri ndipo nthawi zambiri amagwiritsidwa ntchito pozimitsa arc ndi ma transfoma, mizere yamagetsi yamagetsi, otembenuza, ndi zina zotero. Electronic grade high-purity sulfure hexafluoride ndi etchant yabwino yamagetsi, yomwe imagwiritsidwa ntchito kwambiri pankhani yaukadaulo wa microelectronics. Masiku ano, mkonzi wapadera wa gasi wa Niu Ruide Yueyue ayambitsa kugwiritsa ntchito sulfure hexafluoride mu silicon nitride etching ndi mphamvu ya magawo osiyanasiyana.

Timakambirana za SF6 plasma etching SiNx process, kuphatikizapo kusintha mphamvu ya plasma, chiŵerengero cha mpweya wa SF6 / Iye ndikuwonjezera mpweya wa cationic O2, kukambirana za momwe zimakhudzira mlingo wa chitetezo cha SiNx cha TFT, ndi kugwiritsa ntchito ma radiation a plasma The spectrometer imasanthula kusintha kwa ndende ya mtundu uliwonse mu SF6 / He / SF6, SF6aso / SF2 ndikuwunika mgwirizano pakati pa kusintha kwa SiNx etching rate ndi kuchuluka kwa mitundu ya plasma.

Kafukufuku wapeza kuti mphamvu ya plasma ikawonjezeka, kuchuluka kwa etching kumawonjezeka; ngati kuthamanga kwa SF6 mu plasma kukuwonjezeka, kuchuluka kwa atomu F kumawonjezeka ndipo kumagwirizana bwino ndi etching rate. Kuonjezera apo, mutatha kuwonjezera mpweya wa cationic O2 pansi pa chiwerengero chokhazikika chokhazikika, chidzakhala ndi zotsatira zowonjezera mlingo wa etching, koma pansi pa zosiyana za O2 / SF6 zothamanga, padzakhala njira zosiyana zochitira, zomwe zingathe kugawidwa m'magawo atatu: (1 ) O2 / SF6 otaya chiŵerengero ndi chaching'ono kwambiri, O2 ikhoza kuthandizira kupatukana kwa SF6, ndipo nthawiyi siili yowonjezereka kuposa nthawi ya O2. (2) Pamene O2 / SF6 otaya chiŵerengero chachikulu kuposa 0.2 kwa imeneyi ikuyandikira 1, pa nthawi ino, chifukwa cha kuchuluka kwa dissociation wa SF6 kupanga F maatomu, mlingo etching ndi apamwamba; koma panthawi imodzimodziyo, ma atomu a O mu plasma akuwonjezekanso ndipo N'zosavuta kupanga SiOx kapena SiNxO (yx) ndi SiNx filimu pamwamba, ndipo ma atomu a O akamawonjezeka, ma atomu a F adzakhala ovuta kwambiri pakuchitapo kanthu. Choncho, chiwerengero cha etching chimayamba kuchepa pamene chiwerengero cha O2 / SF6 chili pafupi ndi 1. (3) Pamene chiwerengero cha O2 / SF6 chili chachikulu kuposa 1, chiwerengero cha etching chimachepa. Chifukwa cha kuchuluka kwakukulu kwa O2, ma atomu olekanitsidwa a F amawombana ndi O2 ndi mawonekedwe a OF, omwe amachepetsa kuchuluka kwa ma atomu a F, zomwe zimapangitsa kuchepa kwa kuchuluka kwa etching. Zitha kuwoneka kuchokera ku izi kuti O2 ikawonjezeredwa, chiŵerengero cha O2 / SF6 chiri pakati pa 0.2 ndi 0.8, ndipo mlingo wabwino kwambiri wa etching ukhoza kupezeka.